UEFC-4900
UEFC-4900是UEFC-5700的緊湊版。該系統(tǒng)的源基間距和腔室角度專門為150mm晶圓工藝做了優(yōu)化設(shè)計。 強(qiáng)大的中等生產(chǎn)設(shè)備 UEFC-4900是用于lift-off工藝的、 高均勻性的、 中等產(chǎn)能的蒸鍍設(shè)備。 Auratus方法論提高了有效的薄膜沉積速率，使得客戶能更快的制造晶圓。 與傳統(tǒng)的箱體式鍍膜機(jī)相比， UEFC-4900具有以下特點(diǎn)： · 大的裝片量－25片150mm晶圓 · 在不增加設(shè)備占地和功耗的情況下獲得額外的40％晶圓裝片量 · 15分鐘內(nèi)抽真空至5E-07Torr · 高真空泵水蒸氣總抽速36500L/s · 顯著減少的腔室體積和內(nèi)表面積
UEFC-5700 UEFC-5700是一款采用Auraus薄膜沉積工藝改進(jìn)方法論的Temescal系統(tǒng)，極大地改善了lift-off鍍膜工藝。 不使用或僅使用極小型的均勻性修正板即可獲得很好的均勻性，并且還能減少高達(dá)40％的材料消耗。 超高產(chǎn)能的設(shè)備 UEFC-5700是用于lift-off工藝的高產(chǎn)能的蒸鍍設(shè)備。 Auratus方法論提高了有效的薄膜沉積速率，使得客戶能更快的制造晶圓。 與傳統(tǒng)的箱體式鍍膜機(jī)相比，UEFC-5700具有以下特點(diǎn)： · 超大的裝片量－42片150mm晶圓 · 在不增加設(shè)備占地和功耗的情況下獲得額外的40％晶圓裝片量 · 10分鐘內(nèi)抽真空至5E-07Torr · 高真空泵水蒸氣總抽速44000L/s · 顯著減少的腔室體積和內(nèi)表面積